Salehuddin, F.; Roslan, A. F.; Zailan, A.; Kaharudin, K.; Zain, A.; A.H., A. M.; Hanim, A.; Hazura, H.; Idris, S.; Mohd Saad, W. H. Analyze Of Process Parameter Variance In 19nm Wsi2/Tio2 NMOS Device Using 2k-Factorial Design. JTEC 2018, 10, 127-131.